截至2026年8月9日，科创板总计申报企业1047家。其中，已发行上市企业615家（含1家转板企业，含2家已退市企业），终止351家(含终止注册、不予注册)。
上周（0803-0809）新增：
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【内容概要】
1.云深处：实控人仍在高校任职，被问询技术来源及依赖风险
2.《集成电路布图设计保护条例》二十五年后首次全面修订
云深处：实控人仍在高校任职被问询
上周，云深处披露科创板首轮问询答复。“关于技术与研发”中，两个审核问询点引发我们的关注，为科创企业常见问询问题：一是企业实控人长期任职浙江大学背景下校企技术划分、专利来源、潜在技术依赖与知识产权纠纷风险；二是四名核心技术人员均出自南江机器人带来的前雇主技术溯源、竞业约束、技术成果归属问题。
一、实控人朱秋国浙大任职相关
审核机构关注到“发行人实际控制人、董事长、总经理朱秋国自2011年4月至今就职于浙江大学；公司有两项专利来源于浙江大学转让”，要求企业“结合实控人等发行人员工在浙江大学职责、级别、研究范围及成果、领取报酬的情况，发行人历史上与浙江大学的合作研发以及所取得的技术成果、在公司生产经营中的具体应用情况等，说明发行人是否存在知识产权来自于浙江大学，是否存在知识产权、商业秘密、竞业禁止等方面的纠纷，是否对浙江大学构成技术依赖等”。
在答复中，公司说明：
关于人员任职：公司实控人、董事长、总经理朱秋国自2011年4月长期在浙江大学任职，为学院教授、博士生导师，在校主要开展足式机器人基础理论学术研究、课题申报与研究生教学工作，按照学校规章制度正常领取校内薪酬，公司其余在职人员不存在同步在浙江大学任职取酬的情况。
关于技术来源及潜在纠纷：技术合作层面，公司仅有两项专利通过市场化受让形式取自浙江大学，整体转让对价25万元，经过公允评估定价，该专利仅作为企业外围技术储备，并未应用于公司四足机器人、轮足机器人、人形机器人等主力商业化产品；双方仅联合申报两项政府科研课题，事前明确划分研发分工与成果归属，不存在共有核心专利、主营业务关键技术来源于高校合作的情形。浙江大学已出具《关于朱秋国同志科技成果转化活动的证明》，确认与朱秋国本人、云深处科技之间不存在知识产权争议等相关纠纷。
关于技术依赖性：公司运动控制算法、一体化关节、整机结构、具身智能模型等全部核心产业化技术均为企业成立后自主研发落地，依靠自身工程化迭代完成产品商业化落地，不存在对浙江大学的技术依赖。
二、4名核心技术人员出自南江机器人
审核机构关注到“公司拥有核心技术人员4人，皆曾任职于南江机器人（上市公司华丽家族控制的子公司），其主营产品主要为智能移动机器人、仓储机器人、SMT上下料机器人等”，因此，要求公司说明“南江机器人的主营业务及主要产品、技术，与发行人产品、技术的异同，是否存在竞争关系；发行人4名核心技术人员在南江机器人的任职情况，在发行人的工作与其在南江机器人承担的工作及任务的关系，是否存在竞业禁止、保密协议及履行情况，公司核心技术来源是否与前任职单位有关，是否存在其他员工来自南江机器人、签署竞业禁止/保密协议等情形，有关技术权属是否存在纠纷或潜在纠纷，是否对前任职单位等第三方存在技术依赖”。
在答复中，公司说明：
主体业务差异化对比：南江机器人主营室内仓储移动AGV、SMT上下料工业机器人，技术聚焦室内结构化场景平面运动控制；云深处科技主打四足、轮足、人形特种巡检机器人，适配户外复杂地形、非结构化场景，二者产品形态、应用场景、底层控制算法路线完全区分，不存在同业竞争关系。
核心技术人员任职与工作边界：公司4名核心技术人员均有南江机器人任职履历，在职期间仅负责室内平面机器人基础软硬件开发。加入云深处后，工作内容全面转向高动态足式机器人运动控制、多传感器融合、高防护整机结构、行业定制化解决方案开发，前后两段工作任务无重合。上述人员离职时完整履行原单位保密协议、竞业限制约定，无违约行为，未带走前任公司图纸、算法、核心业务资料。
技术权属综合结论：公司全部核心关节、编码器、驱动器、运动算法均为团队入职公司后独立研发打造，没有直接沿用南江机器人成熟技术成果；除4名核心技术人员外，公司其他员工无南江机器人从业背景，全员完成保密、知识产权权属约定签署。企业无相关诉讼、仲裁记录，不存在技术权属纠纷与侵权隐患，核心研发体系完全独立，不会对南江机器人等第三方形成技术依赖。
《集成电路布图设计保护条例》二十五年后首次全面修订
2026年7月23日，国务院公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》，自2026年10月15日起施行。这是该条例自2001年颁布实施以来的首次系统性、全面性修订，从原有的36条扩容至54条。作为集成电路产业知识产权保护的核心行政法规，本次修订不仅是法律条文的更新，更是我国应对全球集成电路技术变革、护航自主创新的制度性布局。
修订背景
现行《条例》颁布于2001年，彼时中国半导体产业尚处于起步阶段。二十余年过去，随着产业技术迭代与国际竞争背景下，原有制度已难以适配新的发展需求。
从技术维度看，光子芯片、量子芯片等“后摩尔时代”新技术不断涌现，原有以传统半导体集成电路为核心的定义已难以覆盖新兴技术形态。
从产业维度看，截至2025年底，国内规模以上集成电路设计企业超过3800家，是2015年的近5倍，行业竞争密度急剧上升。近年来国内布图设计登记申请量持续高速增长，2024年起光子、量子类新型器件的登记需求呈现规模化爆发态势。但与此同时，旧条例下布图设计侵权案件年均不足十件，维权成本高、赔偿力度弱，难以有效激励创新。
从国际竞争维度看，在美国接连实施禁令、限制中国获取先进半导体设计软件和制造设备后，中国半导体产业加快脚步开发国产替代方案。在此背景下，强化本土知识产权保护、构建自主可控的创新制度体系，已从产业议题上升为国家战略议题。
核心修订内容
（一）扩展保护范围：为“后摩尔时代”立法
本次修订最具标志性的改动，是删除了原条例“半导体集成电路”的限定表述，明确“对集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计，可以依照本条例的规定予以保护”。这一调整打破了原有基于硅基半导体的保护边界，使光芯片、量子芯片等新型器件的布图设计获得明确法律地位，直接回应了我国“十五五”期间光电融合、量子信息等技术突破的产业需求，为未来10—15年的技术创新预留了制度空间。
（二）完善申请审查程序：从源头提升权利稳定性
针对原有登记程序偏粗、权利边界模糊的问题，本次修订构建了全流程精细化的登记规则，从源头提升权利稳定性。一是增加“独创性声明”要求，申请人在登记阶段须书面说明布图设计的独创性边界。这有效解决了此前布图设计“独创性”内涵模糊、保护范围难以确定的现实难题。二是引入依第三方请求的撤销登记程序，任何人发现登记不符合规定的均可请求撤销。三是规制虚假申请，细化材料要求，增加权利恢复程序。
（三）强化专有权保护：引入惩罚性赔偿
本次修订显著加大了侵权惩戒力度，赔偿数额按照权利人实际损失或侵权人获利确定；难以确定的，参照许可使用费的倍数合理确定；对故意侵权且情节严重的，可以在上述数额的1倍以上5倍以下确定惩罚性赔偿。这一调整与专利法、著作权法的知识产权惩罚性赔偿体系保持一致，大幅提高侵权违法成本，扭转过去“侵权代价低、维权成本高”的失衡局面。
同时明确以登记的复制件、图样作为权利判定依据，独创性声明可用于解释权利范围，降低了司法与行政程序中的确权难度。
（四）完善运用规则：激活知识产权资产价值
新增布图设计专有权出质登记规则，为企业以知识产权质押融资提供法律依据；明确许可合同备案制度，规范市场交易秩序；规定职务布图设计的奖酬机制，衔接《促进科技成果转化法》，激发研发人员创新动力；新增共有权利行使规则，明确合作创新中的权利边界。此外还强化了主管部门的公共服务职能，推动布图设计成果向产业应用转化。
